5靶頭等離子射頻磁控濺射儀

概念

• 5個濺射頭安裝5種不同材料
• 透過不同的濺射時間•◕☁，5種材料可以濺射出不同組分的產物•◕☁，
• 選擇5個等離子射頻電源•◕☁，可在同一時間濺射5種材料
• 真空腔體中安裝有旋轉樣品臺•◕☁，可以製作16個樣品

電源

單相220 VAC, 50 / 60 Hz

射頻電源

• 一個13.5MHz,300W自動匹配的射頻電源安裝在儀器上•◕☁，並與靶頭相連線
• 一個旋轉開關可一次啟用一個濺射頭▩☁▩✘。濺射頭可以在真空或等離子體環境中自動切換
• 可選購多個射頻電源•◕☁，同一時間濺射多個靶材▩☁▩✘。
• 所有的濺射引數•◕☁，都可由電腦設定

直流電源（可選）

• 可選購直流電源•◕☁，來濺射金屬靶材
• 可配置5個直流或射頻電源•◕☁，來同時濺射5中靶材

磁控濺射頭

• 5個1英寸的磁控濺射頭•◕☁，帶有水冷夾層
• 可在本公司額外購買射頻線
• 電動擋板安裝在濺射腔體內
• 裝置中配有一迴圈水冷機•◕☁，水流量為10L/min
•  (1)  (2) (3) (4)

濺射靶材

• 所要求靶材尺寸│•：直徑為25.4mm,zui大厚度3mm
• 濺射距離: 50 – 80 mm（可調）
• 濺射角度: 0 – 25°（可調）
• 配有銅靶和 Al₂O₃ 靶•◕☁，用於樣品測試用
• 可在本公司購買各種靶材
• 實驗時•◕☁，需要將靶材和銅片粘合•◕☁，可透過導電銀漿粘合（可在本公司購買導電銀漿）

真空腔體

• 真空腔體採用304不鏽鋼製作
• 腔體內部尺寸:  470mm L×445mm D×522mm H  (~ 105 L)
• 鉸鏈式腔門•◕☁，直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃視窗
• 真空度: 4E-5 torr （採用分子泵）

樣品臺

• 直徑為150mm的樣品臺•◕☁，上面覆蓋一旋轉臺•◕☁，帶有10mm的孔洞•◕☁，每次露出一個樣品接收濺射成膜▩☁▩✘。
• 樣品臺尺寸│•：Φ150mm,可透過程式控制來旋轉•◕☁，可製作16種不同組分的薄膜
• 樣品臺可以加熱•◕☁，zui高溫度可達600℃

真空泵

• 裝置中配有一小型渦旋分子泵
• 真空泵介面為KF40

石英振盪測厚儀（可選）

可選購精密石英振盪測厚儀•◕☁，安裝在真空腔體內•◕☁，實時測量薄膜的厚度•◕☁，精確度為0.1 Å（需水冷）

淨重

60kg

質量認證

CE認證

質保

一年質保期•◕☁，終生維護

應用注意事項

• 此款裝置設定主要是在單晶基片上製作氧化物薄膜•◕☁，所以不需要高真空的環境
• 所用氣瓶上必須安裝減壓閥（可在本公司購買）•◕☁，所用Ar氣純度為5N
• 為了得到較好質量的薄膜•◕☁，可以對基片進行清洗
• 用超聲波清洗機•◕☁，用丙酮或乙醇作為清洗介質•◕☁，清除基片表面的油脂•◕☁，然後在N2氣或真空環境下對基片乾燥
• 等離子清洗機•◕☁，可使基片表面粗糙化•◕☁，改變基片表面化學活性•◕☁，清除表面汙染物
• 可在基片表面鍍上緩衝層•◕☁，如Cr, Ti, Mo, Ta,•◕☁，可改善金屬或合金膜的粘附性
• 濺射一些非導電靶材•◕☁，其靶材背後必須附上銅墊片
• 本公司實驗室成功地在Al2O3基片上成功生長出ZnO外延膜
• 因為濺射頭連線著高電壓•◕☁，所以使用者在放入樣品或更換靶材時•◕☁，必須切斷電源
• 不可用自來水作為冷卻水•◕☁，以防水垢堵塞水管▩☁▩✘。應該用等離子水•◕☁，或冷卻介質

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