膜厚監測儀--EQ-TM106

EQ-TM106膜厚監測儀是採用石英晶體振盪原理╃↟│，結合先進的頻率測量技術╃↟│，進行膜厚的線上監測▩╃。主要應用於MBE↟↟·、OLED熱蒸發↟↟·、磁控濺射等裝置的薄膜製備過程中╃↟│，對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監測▩╃。根據實時速率可以輸出PWM模擬量╃↟│，作為膜厚感測器使用╃↟│，與調節儀和蒸發電源配合實現蒸發源的閉環速率控制▩╃。

訪問次數╃◕▩▩：945    產品價格╃◕▩▩：面議    廠商性質╃◕▩▩：生產廠家    更新日期╃◕▩▩：2022-10-11

500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2DC

VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統╃↟│，系統中包含了所有所需的配件╃↟│，如500W（600V）的DC電源↟↟·、2英寸的磁控濺射頭↟↟·、石英真空腔體↟↟·、真空泵和溫度控制器等▩╃。對於製作一些金屬薄膜╃↟│，它是一款物美價廉的實驗手▩╃。

訪問次數╃◕▩▩：1169    產品價格╃◕▩▩：面議    廠商性質╃◕▩▩：生產廠家    更新日期╃◕▩▩：2022-10-11

300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2RF

VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統╃↟│，系統中包含了所有所需的配件╃↟│，如300W（13.5MHz）的RF電源↟↟·、2“的磁控濺射頭↟↟·、石英真空腔體↟↟·、真空泵和溫度控制器等▩╃。對於製作一些金屬薄膜及非金屬薄膜╃↟│，它是一款物美價廉的實驗幫手▩╃。

訪問次數╃◕▩▩：1659    產品價格╃◕▩▩：面議    廠商性質╃◕▩▩：生產廠家    更新日期╃◕▩▩：2022-10-11

1英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀--VTC-1RF

VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀（射頻磁控型）╃↟│，配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源╃↟│，此款裝置主要用於製作非導電薄膜╃↟│，特別是一些氧化物薄膜▩╃。對於新型非導電薄膜的探索╃↟│，它是一款廉價並且高效的實驗幫手▩╃。

訪問次數╃◕▩▩：1456    產品價格╃◕▩▩：面議    廠商性質╃◕▩▩：生產廠家    更新日期╃◕▩▩：2022-10-11

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀--VTC-600-2HD

VTC-600-2HD是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀╃↟│，其中一個靶頭採用直流（DC）濺射╃↟│，可濺射金屬靶材製備金屬膜╃↟│，另一個採用射頻（RF）濺射╃↟│，可濺射金屬和氧化物靶材╃↟│，製備金屬或氧化物膜.裝置上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度▩╃。此裝置可製作各種單層或多層薄膜╃↟│，如鐵電↟↟·、導電╃↟│，合金╃↟│，半導體╃↟│，陶瓷╃↟│，介電╃↟│，光學╃↟│，氧化物和PTFE薄膜等▩╃。而且裝置體積較小操作方便╃↟│，是一套理想的實驗工具▩╃。

訪問次數╃◕▩▩：1275    產品價格╃◕▩▩：面議    廠商性質╃◕▩▩：生產廠家    更新日期╃◕▩▩：2022-10-11