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雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀·☁，其中一個靶頭採用直流（DC）濺射·☁，可濺射金屬靶材製備金屬膜·☁，另一個採用射頻（RF）濺射·☁，可濺射金屬和氧化物靶材·☁，製備金屬或氧化物膜.裝置上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度✘☁。此裝置可製作各種單層或多層薄膜·☁，如鐵電▩☁•、導電·☁，合金·☁，半導體·☁，陶瓷·☁，介電·☁，光學·☁，氧化物和PTFE薄膜等✘☁。而且裝置體積較小操作方便·☁，是一套理想的實驗工具✘☁。
訪問次數▩✘◕↟：2694 產品價格▩✘◕↟：面議 廠商性質▩✘◕↟：生產廠家 更新日期▩✘◕↟：2022-10-12
地址▩✘◕↟：安徽省合肥市蜀山區科學院路10號
郵箱▩✘◕↟：sales@kjmti.com
傳真▩✘◕↟：86-551-65592689