VTC-5RFI薄膜研究5靶頭等離子射頻磁控濺射儀

VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀▩◕☁，針對於高通量MGI（材料基因組計劃）薄膜的研究·☁。特別適合用於探索固態電解質材料▩◕☁，透過5種元素▩◕☁，按16種不同配比組合·☁。

訪問次數₪▩╃╃：1613    產品價格₪▩╃╃：面議    廠商性質₪▩╃╃：生產廠家    更新日期₪▩╃╃：2022-10-12

VTC-2RF射頻等離子磁控濺射鍍膜儀

射頻等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統▩◕☁，系統中包含了所有所需的配件▩◕☁，如300W（13.5MHz）的RF電源▩◕₪、2“的磁控濺射頭▩◕₪、石英真空腔體▩◕₪、真空泵和溫度控制器等·☁。對於製作一些金屬薄膜及非金屬薄膜▩◕☁，它是一款物美價廉的實驗幫手·☁。

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